(주)앤피에스

경기 화성시 · 반도체·디스플레이 장비

표준산업분류(KSIC) · 반도체 제조용 기계 제조업

보유 공정

정밀가공조립

공급 품목

기계·장비

주요 생산품

RTP

AI 기업 요약AI

경기도 화성시에 있는 앤피에스는 반도체와 디스플레이, LED 및 태양전지 생산 공정에 필요한 급속 열처리 장비(RTP)를 제작합니다. 이 장비는 반도체나 디스플레이의 박막을 균일하게 가열하거나 그래핀을 합성하는 등 생산 효율을 높이는 핵심 공정 장비입니다. 정밀가공과 조립 공정을 거쳐 반도체 장비 부품 및 완제품을 생산합니다. 제조 시설 면적은 282.5㎡이며, 2023년부터 해당 위치에서 공장을 운영해 왔습니다. 주력 생산품인 급속 열처리 장비는 반도체, 디스플레이, LED, 태양전지 산업의 제조 공정 중 웨이퍼나 기판을 정밀하게 가열하고 박막을 형성하는 핵심 설비로 사용됩니다. 주력 생산품인 급속 열처리 장비(RTP)는 실리콘 및 사파이어 기판의 어닐링, 메모리와 로직 디바이스용 200mm 웨이퍼 가열 공정에 활용됩니다. 그 외 태양전지 및 그래핀 합성용 열처리 장비, LED 칩 제조용 장비를 공급합니다. 세부적으로는 웨이퍼 회전 모듈, 텅스텐 할로겐 램프 기반의 가열 유닛, 정밀 온도 제어 시스템을 포함하며 각 공정 특성에 맞춘 맞춤형 설비로 구성됩니다. 주요 기술은 고정밀 온도 제어 알고리즘과 전력 제어 하드웨어 설계입니다. 비접촉식 온도계인 파이로미터를 활용하여 실시간으로 온도를 측정하며, 램프 배열과 챔버 내부의 공정 가스 분배를 최적화하여 공정 균일도를 높이는 기술을 갖추고 있습니다. 또한 고온 환경에서도 안정적인 회전을 유지하는 모듈과 진공 및 대기압 공정을 모두 수행할 수 있는 챔버 설계 기술을 적용합니다. 보유 설비로는 정밀 가공 및 조립을 위한 기구 설계와 전장 제어 장치를 갖추고 있습니다. 2007년 설립 이후 2009년 사업장을 이전하였으며, 2011년부터 그래핀 소재부품 관련 국책과제 협약을 체결하고 관련 장비를 개발하였습니다. 2010년 기업부설연구소를 설립하여 열처리 장비 기술을 고도화하고 있습니다.

공장등록 공공데이터와 회사 홈페이지 글만을 바탕으로 AI가 작성한 소개입니다. 실제와 다를 수 있습니다.

회사소개

(주)앤피에스는 2007년 3월 28일 설립된 반도체, LCD, LED, 태양전지 및 그래핀 산업용 급속열처리(RTP) 장비 및 램프 히터 모듈 전문 제조 기업입니다.

'자연과 사람과 기술의 조화로 인한 가치 창조'라는 경영 이념과 개척 정신(Frontier Spirit), 전문가 정신(Professional Spirit), 도전 정신(Venture Spirit)을 바탕으로 신뢰할 수 있는 첨단 열처리 장비와 엔지니어링 서비스를 제공하고 있습니다.

본사는 경기도 화성시 동탄면 동탄산단7길 98-23에 위치하고 있으며, 기업부설연구소를 중심으로 자체 DSP 온도제어 기술과 고성능 램프 가열 기술을 지속적으로 개발하여 국내외 시장에 첨단 장비를 공급하고 있습니다.

기술 현황

온도 제어 기술: 파워 제어 알고리즘, 온도 제어 알고리즘 및 최적의 하드웨어 구성을 통한 정밀 온도 제어
DSP 기반 온도 제어기: 아날로그 신호를 디지털로 변환 처리하여 PID 제어 및 CAN 통신을 통해 실시간 전력 제어기로 전달하는 자체 개발 DSP Board 적용
고성능 히터 제조 기술: 램프 배열, 고반사경 설계, 고효율 텅스텐 할로겐 램프 제작 및 냉각 최적화 기술
Chamber 최적화 설계 기술: 시스템 간 용이한 접속, 챔버 볼륨 최적화, 공정 가스 분배 최적화 및 간편한 예방 점검(PM) 구조
회전 모듈 개발 기술: 고속 회전 모듈, 오염 최소화 구조, 비접촉식 회전 모듈 및 고온 내열성 회전 모듈 기술
진공 기술: 산소 농도 제어(< 5 ppm), 정밀 압력 제어, 진공 및 대기압(ATM) 공정 호환 설계
공정 가스 믹싱 기술: N2, O2, Ar, N2O, NO, NH3, H2, H2O, H2S, H2Se 등 다양한 공정 가스 제어 및 혼합

생산 설비 및 생산품

RHP150: 실리콘, 유리, 사파이어 공정처리용 급속 열처리 장비 (2”~6” 웨이퍼 및 150mm 원형 사파이어 웨이퍼 대응)
RHP150 PLUS: 비접촉식 파이로미터 다채널 온도 제어 및 기판 회전 모듈이 적용된 6인치 기판 어닐링용 RTP 장비
RHP200: 메모리 및 로직 디바이스용 200mm 실리콘 웨이퍼 급속 열처리 장비 (Stand Alone 또는 Backbone Type)
RHP440: 2인치 또는 4인치 사파이어 웨이퍼 ITO 어닐링용 급속 열처리 시스템 (Multi-pocket Susceptor 장착)
RHP620: 6인치 실리콘 및 사파이어 웨이퍼 어닐링용 급속 열처리 시스템 (2 Chamber 구성 지원)
RHP640AVP: 6인치 사파이어 웨이퍼 ITO 어닐링용 전자동 4 Chamber 급속 열처리 시스템
RHP300V RT-CVD: 진공 고온 분위기에서 탄화계열 가스를 열분해하여 금속 촉매 기판 상 그래핀을 합성하는 급속 열처리 장비
RHP470V CIGS: Mo glass 기판을 H2Se 분위기에서 어닐링하는 CIGS 박막 태양전지 제조용 급속 열처리 장비
RHP150 MLCC: 다층 세라믹 캐패시터의 고온 장시간 소결 및 바인더 제거를 위한 특수 목적 급속 열처리 장비
RHP300PA: Wet Etching 장비 내 고온인산(H3PO4) 및 황산(SPM) 질화물 식각 공정용 300mm 웨이퍼 대응 램프 가열 모듈
RHP Infinity: 태양광 박막제조용 PECVD 대형 기판 사전 예열(Pre-heat)용 대면적 램프 히터 모듈 (최대 길이 2000mm 대응)
Tungsten Halogen Lamp: 벌브형 및 선형 텅스텐 할로겐 램프 (고효율, 안정적 색온도, 우수한 가열/냉각 반응성)