(주)앤피에스는 2007년 3월 28일 설립된 반도체, LCD, LED, 태양전지 및 그래핀 산업용 급속열처리(RTP) 장비 및 램프 히터 모듈 전문 제조 기업입니다.
'자연과 사람과 기술의 조화로 인한 가치 창조'라는 경영 이념과 개척 정신(Frontier Spirit), 전문가 정신(Professional Spirit), 도전 정신(Venture Spirit)을 바탕으로 신뢰할 수 있는 첨단 열처리 장비와 엔지니어링 서비스를 제공하고 있습니다.
본사는 경기도 화성시 동탄면 동탄산단7길 98-23에 위치하고 있으며, 기업부설연구소를 중심으로 자체 DSP 온도제어 기술과 고성능 램프 가열 기술을 지속적으로 개발하여 국내외 시장에 첨단 장비를 공급하고 있습니다.
온도 제어 기술: 파워 제어 알고리즘, 온도 제어 알고리즘 및 최적의 하드웨어 구성을 통한 정밀 온도 제어
DSP 기반 온도 제어기: 아날로그 신호를 디지털로 변환 처리하여 PID 제어 및 CAN 통신을 통해 실시간 전력 제어기로 전달하는 자체 개발 DSP Board 적용
고성능 히터 제조 기술: 램프 배열, 고반사경 설계, 고효율 텅스텐 할로겐 램프 제작 및 냉각 최적화 기술
Chamber 최적화 설계 기술: 시스템 간 용이한 접속, 챔버 볼륨 최적화, 공정 가스 분배 최적화 및 간편한 예방 점검(PM) 구조
회전 모듈 개발 기술: 고속 회전 모듈, 오염 최소화 구조, 비접촉식 회전 모듈 및 고온 내열성 회전 모듈 기술
진공 기술: 산소 농도 제어(< 5 ppm), 정밀 압력 제어, 진공 및 대기압(ATM) 공정 호환 설계
공정 가스 믹싱 기술: N2, O2, Ar, N2O, NO, NH3, H2, H2O, H2S, H2Se 등 다양한 공정 가스 제어 및 혼합
RHP150: 실리콘, 유리, 사파이어 공정처리용 급속 열처리 장비 (2”~6” 웨이퍼 및 150mm 원형 사파이어 웨이퍼 대응)
RHP150 PLUS: 비접촉식 파이로미터 다채널 온도 제어 및 기판 회전 모듈이 적용된 6인치 기판 어닐링용 RTP 장비
RHP200: 메모리 및 로직 디바이스용 200mm 실리콘 웨이퍼 급속 열처리 장비 (Stand Alone 또는 Backbone Type)
RHP440: 2인치 또는 4인치 사파이어 웨이퍼 ITO 어닐링용 급속 열처리 시스템 (Multi-pocket Susceptor 장착)
RHP620: 6인치 실리콘 및 사파이어 웨이퍼 어닐링용 급속 열처리 시스템 (2 Chamber 구성 지원)
RHP640AVP: 6인치 사파이어 웨이퍼 ITO 어닐링용 전자동 4 Chamber 급속 열처리 시스템
RHP300V RT-CVD: 진공 고온 분위기에서 탄화계열 가스를 열분해하여 금속 촉매 기판 상 그래핀을 합성하는 급속 열처리 장비
RHP470V CIGS: Mo glass 기판을 H2Se 분위기에서 어닐링하는 CIGS 박막 태양전지 제조용 급속 열처리 장비
RHP150 MLCC: 다층 세라믹 캐패시터의 고온 장시간 소결 및 바인더 제거를 위한 특수 목적 급속 열처리 장비
RHP300PA: Wet Etching 장비 내 고온인산(H3PO4) 및 황산(SPM) 질화물 식각 공정용 300mm 웨이퍼 대응 램프 가열 모듈
RHP Infinity: 태양광 박막제조용 PECVD 대형 기판 사전 예열(Pre-heat)용 대면적 램프 히터 모듈 (최대 길이 2000mm 대응)
Tungsten Halogen Lamp: 벌브형 및 선형 텅스텐 할로겐 램프 (고효율, 안정적 색온도, 우수한 가열/냉각 반응성)
CE 인증 (Rapid Thermal Process System_RHP620, 2011년 10월)
CE 인증 (RHP300 Wet bench용 고온인산장비, 2012년 11월)
CE 인증 (RTP System_RHP640V, 2013년 12월)
벤처기업 인증 (2008년 4월)
기술혁신형 중소기업(INNO-BIZ) 확인서 (중소기업청, 유효기간: 2013년 4월 14일 ~ 2016년 4월 13일)
기업부설연구소 인정서 (한국산업기술진흥협회, 2010년 6월 15일 설립)
중국 특허 등록: SUSCEPTOR UNIT AND APPARATUS FOR PROCESSING SUBSTRATE USING THE SAME (등록번호: ZL 2010 1 0528673.6, 등록: 2013년 10월 / 출원: 2010년 10월)
대만 특허 등록: SUSCEPTOR UNIT AND APPARATUS FOR PROCESSING SUBSTRATE USING THE SAME (등록번호: I 442510, 등록: 2014년 6월 / 출원번호: 99136500, 출원: 2010년 10월)
미국 특허 출원: RT-CVD(그래핀 합성용) 시스템 (출원번호: 13/416,071, 2012년 3월)
경기도 유망중소기업 선정 (경기도지사, 인증기간: 2011년 9월 1일 ~ 2016년 8월 31일)
유망중소기업 선정서 (주식회사 신한은행, 2011년 7월 12일)
2015년 강소기업 선정 (2014년 12월)
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