씨에스와이

경기도 안산시에 위치한 (주)씨에스와이는 반도체 및 디스플레이, 의료와 연구개발 분야에 쓰이는 습식 공정 설비를 설계하고 제작하는 전문 기업입니다. 반도체 웨이퍼나 유리 기판의 세정, 식각, 박리에 필요한 맞춤형 장비를 전문적으로 다룹니다. 반도체 장비 생산을 위한 정밀 가공 및 조립 공정을 수행하며, 2014년부터 해당 장소에서 공장을 운영해 오고 있습니다. 제조 시설은 219.5㎡ 규모의 지식산업센터 내에 자리 잡고 있습니다. 이 회사가 만드는 것 가운데 일반 기계·설비 품목은 전국에 1749곳, 경기 안산시 59곳 있습니다. 제작된 장비들은 반도체 제조 공정의 핵심인 세정 및 식각 라인에 투입되며, 로봇 자동화 시스템과 연동되어 기계·산업장비 및 로봇·자동화, 자동차·모빌리티 분야의 공정 경쟁력을 높이는 데 쓰입니다. Wet Station은 화학 약품을 이용해 반도체 부품 등을 세정하는 설비입니다. R&D PVA Brush Cleaner는 CMP 공정 중에 웨이퍼 표면에 발생하는 미세 입자를 솔을 이용해 제거하며, 실험실이나 대학 연구소에서 쓰기 적합하게 제작되었습니다. Glass Etcher는 디스플레이 패널의 식각이나 세정 공정을 인라인 방식으로 처리하는 자동화 시스템입니다. Chemical Supply System은 공정에 필요한 화학 약품을 일정하게 공급하는 장치입니다. 실험실용 소형 장비부터 대규모 양산용 자동화 시스템까지 고객의 공정 환경에 맞춰 설계하는 기술력을 갖추고 있습니다. 습식 공정을 위한 스테인리스 및 내화학성 재질을 주로 다루며, 각종 세정 설비와 식각 배스, 자동화 구동부 등을 직접 설계하고 제작합니다. 특히 미세 입자 제거와 같은 정밀 세정 기술과 대면적 유리의 자동 식각 제어 기술을 중심으로 제작 공정을 수행합니다. 내부 공정에는 습식 세정 및 식각 관련 장치와 정밀 조립을 위한 장비들을 갖추고 있습니다. 2014년 공장 등록을 완료하고 본격적인 설비 제작을 시작하였으며, 현재 반월국가산업단지 내 대우테크노피아에서 연구용 및 양산용 장비를 꾸준히 제작하고 있습니다.