반도체 웨이퍼 표면을 화학적 반응과 기계적 힘으로 평탄하게 다듬는 연마재와, 디스플레이 패널 제조 시 패턴을 형성하는 데 쓰이는 세정 장비를 만듭니다. 경기 안성시에 본사를 둔 (주)케이씨텍은 이러한 반도체 및 디스플레이 산업용 핵심 소재와 장비를 생산하는 기업입니다.
파우더와 첨가제, 세정장비 반제품을 원료로 받아 정밀가공과 조립 공정을 거쳐 제품을 완성합니다. 2017년부터 이 자리에서 공장을 운영해 왔으며, 제조 시설 넓이는 23,850.7㎡에 이릅니다.
반도체 웨이퍼의 평탄화 공정과 디스플레이 패널의 세정·식각 라인에 직접 투입되는 장비와 소재입니다.
CMP 장비는 웨이퍼를 화학적 반응과 기계적 힘으로 평탄하게 연마하는 반도체 공정용 장비입니다. Wet Station은 디스플레이 제조에서 액체를 이용해 세정, 식각, 현상 등의 공정을 수행하여 패턴을 형성하는 장비입니다. CMP Slurry는 80nm~300nm 입자와 초순수, 화학물질이 혼합된 현탁액으로, 연마 대상 막질을 화학적 기계적으로 연마하는 역할을 합니다.
Ceria Slurry는 입자 크기에 따라 연마량을 조절할 수 있으며, 특정 첨가제와 혼합하여 실리콘 질화물 및 폴리실리콘 막질에 대한 선택비를 제어합니다. Silica Slurry는 콜로이드 실리카와 기능성 화학물질을 DIW에 혼합하여 Metal Contact 및 Poly 공정에 사용합니다. W Buff Slurry는 Ferric Ion Free 및 Defect Free 특성을 지니며, W 막질의 Topography를 제어합니다.
2017년 인적분할로 신설회사 KCTech가 설립되었습니다. 2019년 안성 제7공장을 매입하고, 2021년 동탄 R&D센터를 설립하였습니다. 본사는 경기도 안성시 미양면 제2공단3길 12에 있으며, 안성시에 1공장부터 7공장까지 총 7개의 생산 시설을 갖추고 있습니다.