반도체 제조 공정에서 웨이퍼를 깎아내거나 박막을 형성할 때 쓰이는 특수 가스와, 리튬이온배터리 내부에서 이온을 전달하는 전해질염을 만듭니다. 울산 남구에 본사를 둔 (주)후성은 이러한 불소화합물을 생산해 전자산업의 핵심 소재를 공급하고 있습니다.
무수불산을 원료로 받아 화학 반응을 거쳐 다양한 불소화합물을 제조합니다. 2003년부터 이 자리에서 공장을 운영해 왔으며, 제조 시설 넓이는 56,504.4㎡입니다.
반도체 식각 및 증착 공정에 쓰이는 특수 가스와 2차전지 전해질 소재를 공급하며, 전자·배터리 산업의 핵심 부품으로 나갑니다.
C4F6는 반도체 식각 공정에서 웨이퍼 표면을 깎아내는 데 쓰이는 드라이 에칭 가스입니다. WF6는 증착 공정에서 박막을 형성할 때 사용하는 가스이며, 순도 99.9995% 이상을 유지합니다. 고순도 HF는 확산 및 웨이퍼 세정 공정에 쓰이는 가스로, 불순물 함량을 극도로 낮춘 것이 특징입니다.
SQC와 LIMS 시스템을 통해 품질을 관리하며, PCN 변경점 관리와 위험요소 관리 시스템을 운영합니다. 반도체용 가스는 Cr-mo 또는 SUS316L 실린더에 충전하며, 충전 무게는 10kg부터 70kg까지 다양합니다. 2차전지 소재로는 LiPF6와 LiBF4를 생산합니다.
1986년 부설 연구소를 설립해 연구개발을 시작했으며, 1989년 무수불산 공장을 준공했습니다. 2004년 C2F6/C3F8 공장을, 2009년 WF6 공장을, 2021년 고순도 HF 공장을 각각 준공했습니다. 2025년에는 F2N2와 PF3 공장을 준공하고 후성 첨단소재연구소를 개소했습니다.