(주)에이스나노켐

에이스나노켐은 반도체 제조 공정에서 웨이퍼 표면을 화학적, 기계적으로 연마하여 평탄도를 확보하는 데 사용되는 반도체연마유를 생산하는 기업입니다. 경상북도 경산시에 자리하고 있으며 반도체 공정용 소재뿐만 아니라 다양한 산업군에 활용되는 나노 소재를 전문으로 다룹니다. 규산소다를 원자재로 입자 기술을 활용한 공정을 거쳐 나노 소재를 제조하고 있습니다. 제조 시설은 826.7㎡ 규모로 운영되며 2000년부터 해당 공장 등록을 통해 생산을 이어오고 있습니다. 이 회사가 만드는 것 가운데 전자·전지·디스플레이 소재 품목은 전국에 343곳, 경북 경산시 2곳 있습니다. 반도체와 디스플레이의 핵심 공정에 투입되는 소재를 공급하며, 나아가 전기차 배터리 제조나 일반 산업 분야인 강판, 유리 코팅, 제지, 내화물 제조 라인으로도 그 쓰임새가 확장되고 있습니다. 반도체용 슬러리인 ACESOL®은 웨이퍼 표면의 결함을 줄이고 정밀한 연마 성능을 구현하기 위해 반도체 공정층에 적용하는 소재입니다. 산업용 콜로이달 실리카인 SILIFOG®는 강판이나 제지, 내화물 등 다양한 산업 분야에서 표면 처리나 물성 강화를 목적으로 사용됩니다. 이 외에도 웨이퍼 슬러리 등 여러 분야의 폴리싱 슬러리를 제조하여 고객사가 요구하는 막질 특성에 대응하고 있습니다. 독자적인 입자 기술 개발을 바탕으로 콜로이달 실리카의 상용화 공법을 운용하고 있습니다. 규산소다 등의 원재료를 활용해 나노 단위의 미세 입자를 제어하며 반도체 막질 특성에 맞춘 맞춤형 설계 및 제조 기술을 직접 수행합니다. 이를 통해 웨이퍼 표면 연마 시 요구되는 선택비와 공정 안정성을 확보하는 가공 역량을 갖추고 있습니다. 2014년 12월 제2공장 준공으로 생산 기지를 다변화하였으며, 2015년 4월에는 원재료 생산을 위한 전용 공장을 추가로 건설하였습니다. 현재 경상북도 영천에 본사를 두고 있으며 경산시에 공장 겸 CMP연구소를 운영 중입니다.