주식회사 나노시스템은 2003년 4월에 설립된 3차원 측정·검사 분야 솔루션 기업으로, 비접촉 표면 측정·검사 시스템, 반도체·PCB 측정 검사 시스템, FPD 공정 검사 시스템, 라이브 셀 이미징 시스템 등을 개발 및 공급하고 있습니다.
나노시스템의 초정밀 광학 솔루션은 반도체 IC Substrate 분야에서 미세 패턴 형상과 나노 레벨 표면 거칠기 측정에 활용되어 품질 관리와 수율 향상, R&D에 기여하고 있으며, 바이오 분야로도 확장하여 살아있는 세포의 측정·분석 솔루션을 제공합니다.
대전광역시 본사를 중심으로 중국 선전 지사 등 글로벌 서비스 네트워크를 구축하여 원격 대응, 교육 지원, 유지보수 체계를 운영하고 있습니다.
비접촉 미세형상 측정기술: 백색광 간섭계(Coherent Scanning Interferometry)를 기반으로 세밀한 영역 측정 및 초고속 측정 구현
독자적인 광학계 설계기술 및 NIR 간섭계(NIR Interferometry) 원리를 통한 박막/후막(Thin film / Thick film) 내부 패턴 및 두께 측정
대면적 측정기술: 대면적 단위 고정밀 측정, 초당 1mm 이상의 Z-Scan speed, Multi chip 단차 및 Warpage(Flatness) 측정
Automation Integration: 4차 산업 트렌드에 맞춘 측정, 데이터 통신, SECS/GEM 통신 및 물류 통합 무인 자동화 솔루션
바이오 분석기술: 형광 3채널+Bright field 채널, Auto focus, 응결 방지 시스템 및 AI 기반 데이터 분석 알고리즘
범용 시스템 (NV-Series): 백색광 간섭계 방식의 비접촉 3D 표면 프로파일러 (0.1nm 분해능, 비파괴 거칠기/단차 측정, Stitching 정합 기능)
PCB 전용 시스템 (NSF & NSH Series): CSP, BGA, FCBGA, SIP, WLP, PLP, HDI, FPCB 대응 3D+2D Hybrid 측정 장비
SR/ABF 두께 측정 시스템 (NS-7300TM): NIR 방식을 활용한 비파괴 절연막 두께 및 내부 패턴 자동 측정 장비
대영역 CSI 측정 Module: 고속 Z-Scan 기반 대면적 Warpage 및 Multi Chip Package 단차 측정 모듈
Full Automation 3D 측정 시스템: PCB전용 자동화 시스템(NSA Series) 및 Wafer 전용 System (4인치~15인치 대응, Bare wafer 거칠기 관리)
Live Cell Imaging System (CellPro): 실시간 세포 성장/사멸 모니터링, Cell counting, Confluence, Cell migration 분석 장비
ISO 9001:2000 품질인증 획득 (2005년)
벤처기업 등록 (2003년)
한국생산기술연구원 파트너 기업 선정 (2014년)
한국기계연구원 Family 기업 협약 (2011년)
오백만 불 수출의 탑 수상 (한국무역협회, 2021년)
백만 불 수출의 탑 수상 (한국무역협회, 2014년)
삼성 코닝 정밀유리 우수 협력업체 수상 (2009년)
특허: Surface Measurement Method using Interference of Light (특허 제173509호)
특허: Method For Measuring a Thickness Profile and a Refractive Index Using White-Light Scanning Interferometry (국내 특허 제0290086호 / 미국 특허 US 6,545,763 B1)
특허: Optical Dimensional Metrology System (특허 제0284080호), Optical 2D and 3D Profile Measuring System (특허 제0272162호)
특허: 3차원 형상 측정 장치 및 방법 관련 다수 (특허 제10-0641885호, 제10-0751924호, 제10-0907516호, 제10-0916593호 외 다수)
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