(주)에스앤에스텍

대구 달서구에 있는 에스앤에스텍은 반도체와 디스플레이를 제작하는 노광 공정에서 핵심적인 역할을 하는 블랭크마스크를 만드는 기업입니다. 블랭크마스크는 반도체 회로의 원판이 되는 포토마스크를 만들기 위한 가장 기초적인 원소재로서, 빛을 이용해 웨이퍼 위에 회로 도면을 새길 때 정밀한 패턴을 형성하는 결정적인 역할을 수행합니다. 이 회사는 전구를 비롯한 각종 원자재를 공급받아 정밀 조립 및 가공 공정을 거쳐 블랭크마스크를 생산합니다. 성서지방산업단지에 자리 잡고 있으며 2002년부터 공장을 운영해 왔습니다. 제조시설 넓이는 8702.1㎡이며, 건축면적은 16506.4㎡, 용지면적은 13240.9㎡입니다. 같은 품목을 만드는 공장 67곳 가운데 제조시설 넓이는 상위 25%에 해당합니다. 이 회사가 만드는 것 가운데 웨이퍼·기판 품목은 전국에 147곳, 대구 달서구에 2곳 있습니다. 반도체 제조 공정의 핵심 원재료로 쓰이며, 특히 미세 회로 패턴을 구현하는 리소그래피 노광 공정의 최전선에서 사용됩니다. 블랭크마스크는 반도체 회로 도면을 새기기 전의 깨끗한 필름과 같은 소재로, 회로의 정밀도를 결정짓는 핵심 부품입니다. 펠리클은 고가의 마스크 표면을 파티클 오염으로부터 보호하여 공정의 수율과 장비 가동률을 높이는 초박막 멤브레인입니다. EUV 소재는 13.5nm 극자외선 공정에 대응하는 차세대 핵심 재료로 반도체 미세공정의 난이도를 극복하는 데 쓰입니다. 고평탄·저결함 박막 적층 기술을 통해 마스크 기판과 다층 반사막, 흡수층을 아우르는 기술력을 보유하고 있습니다. 극자외선 노광 공정을 위해 저굴절률과 고굴절률 소재를 40회 반복 증착하는 Bragg Mirror 공법을 사용하며, 열팽창계수가 0에 가까운 특수 기판을 다룹니다. 소재의 국산화부터 대면적화, AI 기반의 결함 검출 기술까지 전 공정을 아우르는 원천 기술을 연구하고 있습니다. 2001년 설립 이후 2002년 준공식을 가졌으며, 2016년 제2공장을 준공했습니다. 최근에는 2025년 EUV 센터를 준공하여 차세대 공정 대응 체계를 갖췄습니다. 대구 본사를 중심으로 연구개발과 양산 설비를 지속적으로 증설하며 기술 고도화를 추진하고 있습니다.