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공개 데이터 기반 · 공장등록현황

(주)싸이노스

경기 화성시 · 전자부품
표준산업분류(KSIC) · 그 외 기타 전자부품 제조업 외 1 종
보유 공정
표면처리
공급 품목
부품 제조
주요 생산품
반도체LCD장비반도체 설비부품 Al Anodizing 처리반도체(드라이브IC)

AI 기업 요약AI

경기 화성시에 있는 (주)싸이노스는 반도체 제조 공정에서 사용하는 장비의 부품을 정밀하게 세정하고 특수 코팅하는 서비스를 제공하는 기업입니다. 여기서 말하는 세정 및 코팅은 반도체 웨이퍼의 수율에 영향을 줄 수 있는 미세한 오염 물질을 제거하여 장비 부품이 정상적인 기능을 유지하도록 돕는 공정입니다. 반도체 장비 부품을 대상으로 하는 고도화된 정밀 세정 및 코팅 공정을 수행하며 2008년부터 이 자리에서 공장을 운영해 왔습니다. 제조 시설 면적은 3581.8㎡이며, 같은 품목을 제조하는 전국 225개 공장 중 제조 시설 넓이 기준 상위 10%에 해당하는 규모를 갖추고 있습니다. 이 회사의 세정 및 코팅 기술은 반도체 및 디스플레이 제조 공정에 투입되는 핵심 부품의 상태를 최적화하는 데 쓰입니다. 주력 서비스인 반도체 부품 정밀 세정은 장비 내부의 입자나 이물질을 제거하여 반도체 수율 저하의 원인을 최소화하는 작업입니다. 특수 코팅 기술은 금속 이온을 차단하고 아웃가싱을 억제하여 부품의 내구성과 장비 내 청정도를 유지하는 역할을 합니다. 이를 통해 고객사가 원하는 장비 가동률과 생산성 향상을 뒷받침합니다. 화학적 세정 및 물리적 건식 세정 공법을 활용하며 정밀한 표면 처리를 통해 오염 물질을 제로화하는 데 초점을 맞춥니다. 반도체 장비에 들어가는 부품의 재질 특성에 맞춰 표면 코팅을 수행하며, 초정밀 세정 기술과 아노다이징 설비 운용 등 자체적인 기술력을 바탕으로 부품의 상태를 재생하고 성능을 복원하는 공정을 전담합니다. 팔탄 본사 공장과 발안 제2·제3 공장을 운영하며 최신 정밀 세정 설비와 아노다이징 라인을 갖추고 있습니다. 2002년 창립 이후 2007년 팔탄 제1공장 설립, 2013년 중국 시안 법인 및 제1공장 완공, 2018년 발안 제3공장 설립 등을 거쳐 성장해 왔으며 중국 시안에 제2공장을 추가로 확보하고 있습니다.

공장등록 공공데이터와 회사 홈페이지 글만을 바탕으로 AI가 작성한 소개입니다. 실제와 다를 수 있습니다.

회사소개

씨엔오에스(CINOS)는 반도체 챔버 부품의 초정밀 세정(Precision Cleaning) 및 기능성 보호 코팅(Protective Coating) 전문 기업입니다. 축적된 기술과 품질을 바탕으로 반도체 수율 향상 및 부품 수명 연장에 기여하는 맞춤형 솔루션을 제공합니다.

24시간 7일 상시 제어 가능한 ERP 트래킹 관리 인프라를 구축하여 전 작업 공정을 중앙 집중형 시스템으로 운영하며, 글로벌 분석 랩 ChemTrace와의 네트워크를 통해 C1 팹(화성) 내 독립 상용 분석 랩을 운영하고 있습니다.

한국 화성(C1, C2, C3 사업장)을 비롯해 중국 시안(CX1, CX2 사업장), 미국 테일러(텍사스) 등 글로벌 사업장 네트워크를 운영하고 있습니다.

기술 현황

정밀 세정(Precision Cleaning) 기술을 통해 부품 표면 부산물 제거, 미세 파티클 제어, 나노 파티클 제어, 무손상(Damage Free), 금속 이온 제어, 아웃가싱 제어 및 샤워헤드 특화 세정 기술을 제공합니다.

보호 코팅(Protective Coating) 기술을 통해 플라즈마 저항성 및 모재 보호 기능을 구현하며, 금속 공정(Metal Process)을 위한 고조도(High Roughness: ARC®, Stealth™-1, HEMI™) 및 고밀도(High Density: Stealth™-2, MAHA™) 코팅 기술과 식각 공정(Etch Process)을 위한 박막(Thin Film: EP-ZERON™, A-ZERON™) 및 후막(Thick Film: APS, UHD™-1, UHD™-2, SAC™) 세라믹 코팅 기술을 보유하고 있습니다.

제조 공정

  • Pre-Cleaning: CAUS™ / CIS™ & DIS™ / PBC™ / POC™

  • Selective Cleaning: PSC™ / MPS™ / TIC™ / PBR™

  • Post-Cleaning: SBC™ / SSC™ / Warm-NPP™

  • Metal Process Coating (Sputtering / High Roughness & High Density Coating)

  • Etch Process Coating (Ceramic Thin Film & Thick Film Coating)

검사·측정 설비

  • ICP-MS (유도결합 플라즈마 질량분석기)

  • LASER PARTICLE COUNTER (레이저 파티클 카운터)

  • ION-CHROMATOGRAPHY (이온 크로마토그래피)

  • ATD-GC-MS (열탈착-가스크로마토그래피 질량분석기)

  • SEM-EDS (주사전자현미경-에너지분산형 분광분석기)

  • GC-MS (가스크로마토그래피 질량분석기)

  • CPDS (Cinos Particle Detection System / N2 제트 & 저진공 펌프 방식 홀 파티클 검출·측정기)

  • Contact & Non-contact type CMM (접촉식 및 비접촉식 3차원 측정기)

  • HIS (Hole Inspection System / 홀 막힘 및 이물질 자동 검출기)

  • Automatic Laser Confocal Microscope (자동 레이저 공초점 현미경 / 최대 2000배 고배율 측정)

  • CTI (Coating Termination Inspection / 코팅 단면 검사 시스템)

생산 능력

  • 연간 세정 및 코팅 부품 처리량: 971,090 EA (2022년 기준)

  • 연평균 성장률(CAGR): 18.3%

  • 임직원 수: 738명 (세정·코팅 전문 R&D 인력 39명 포함)

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